ASML

Система литографии по сути является проекционной системой. Свет проецируется через шаблон схемы, которая должна быть напечатана (известный как «маска» или «сетка»). Шаблон в четыре раза больше самой схемы, которая будет напечатана на чипе. После того как схема была закодирована в свете, оптика системы сжимает рисунок и фокусирует его на светочувствительной кремниевой пластине. После того, как схема напечатана, система слегка перемещает пластину и делает еще одну копию на пластине.

Этот процесс повторяется до тех пор, пока пластина не будет покрыта схемами, тем самым завершая один слой чипов на пластине. Чтобы сделать целый микрочип, этот процесс должен быть повторен 100 или более раз, накладывая схемы поверх схем. Размер печатаемых элементов варьируется в зависимости от слоя, а это означает, что для разных слоев используются разные типы систем литографии — от систем EUV последнего поколения для самых маленьких элементов до более старых систем DUV для самых больших.

Передовые микрочипы содержат миллиарды транзисторов. С каждым новым поколением (часто называемым «узлом» (node)) производители чипов умещают на чип еще больше транзисторов еще меньшего размера, чтобы сделать чипы более мощными, быстрыми и энергоэффективными.

Используя свет EUV (экстремальное ультрафиолетовое излучение), системы NXE обеспечивают литографию высокого разрешения и делают возможным массовое производство самых передовых микрочипов в мире.

Системы EUV применяются для печати самых сложных слоев на чипе, а остальные слои печатаются с использованием систем DUV. Оба типа технологий будут необходимы параллельно в течение еще многих лет, и ASML продолжает развивать обе технологии.

Системы литографии дальнего ультрафиолетового излучения (DUV) производства ASML уходят глубоко в УФ-спектр, чтобы напечатать микроскопические элементы, составляющие основу микрочипа.

Иммерсионные системы компании ASML являются лидерами в отрасли по эффективности, характеристикам работы c изображениями и наложением для крупносерийного производства самых передовых чипов.

Системы сухой литографии DUV подходят для более простых слоев чипа и применяются вместе с более совершенной системой EUV. Это более экономичное и рентабельное решение для клиентов.