Компания ASML почти 40 лет занимается разработкой и производством литографического оборудования, без которого сегодня невозможно выпускать интегральные микросхемы (чипы). Проекционные фотолитографические машины (т.н. степперы или сканеры) ASML формируют полупроводниковую структуру современных чипов.
Сегодня эта компания из Нидерландов лидер в своем сегменте средств производства микроэлектроники. По некоторым оценкам доля продаваемых систем литографии ASML на мировом рынке превышает 60 %, тогда как у ближайшего конкурента – японской Nicon только 10 %.
Основой ассортимента продукции ASML являются две линейки Twinscan на основе технологий DUV (Deep UltraViolet) и EUV (Extreme UltraViolet). В степперах семейства DUV используется источник т.н. глубокого УФ излучения. Разработка технологии EUV с источником жесткого УФ излучения (длина волны 13,5 нм) сделала ASML монополистом рынка субмикронных технологий. Степперы Twinscan с источником EUV позволяют производителям микросхем переходить на технологические нормы 7, 5 и 3 нанометра.
Машины литографии EUV семейства ASML Twinscan способны:
- обеспечить точность позиционирования до 2 нм;
- обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 мм;
- выпускать до 6000 пластин в день.
Системы EUV и DUV взаимно дополняют друг друга и будут необходимы параллельно в течение многих лет, мы продолжаем развивать обе технологии, – заявляет ASML.
Получить необходимые консультации по литографическому оборудованию ASML вы можете на этом сайте ООО «ПРОМИМПОРТ».